Toshiba har börjat konstruera en ny halvledarfabrik vid Yokkaichi-anläggningen i Mie-prefekturen i Japan. Anläggningen är bas för större delen av Toshibas minnesproduktion och den nya Fab 6 kommer att producera 3D-flashminnen.

Den nya fabriken blir helt dedikerad att producera BiCS FLASH, Toshibas egen 3D-flashteknik. På samma sätt som vid bygget av fab 5 kommer den nya fabriken att byggas i två omgångar, s att investeringarna kan anpassas till marknadens behov. Första fasen av bygget planeras att stå klart i mitten av 2018.
Toshiba kommer också att bygga ett forskningscenter för minnen vid sidan av den nya fabriken. Det planeras att stå klart redan i december i år. Centret får ansvar för vidareutvecklingen av BiCS FLASH och framtagningen av nya minnestyper.

Filed under: Utländsk Teknik