High-K och 32nm
IBM med samarbetspartners har ”design-regler” klara och tidiga prototyper av sin 32nm high-K teknologi. Resultat visar på trettiofem procents bättre prestanda och fyrtio procents lägre effektförbrukning
Design-reglerna tillåter vidareutveckling mot 28nm och har långsiktig potential ned till 22nm.
IBM samarbetar med Chartered Semiconductor Manufacturing, Freescale, Infineon, Samsung, STMicroelctronics och Toshiba inom process och teknologiutveckling. Charter och Samsung rapporterar att de kommer att erbjuda för full service för prototyper under tredje kvartalet.
Filed under: Utländsk Teknik