SUNY Polytechnic Institute (SUNY Poly) och Globalfoundries kommer att satsa 500 miljoner dollar i ett femårigt FoU-program kring EUV. Det handlar om att etablera ett så kallat Advanced Patterning and Productivity Center (APPC) vid the Colleges of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) i Albany, N.Y. Målet är att snabbare introducera EUV litografiteknik i tillverkningsprocesser och centret är förankrat genom ett nätverk av internationella chiptillverkare, material och utrustningsleverantörer, inklusive IBM och Tokyo Electron samt stöds av New York States Andrew M. Cuomo. Satsningen ska enligt APPC ge stöd till guvernörens åtagande att upprätthålla New York States globala ledarskap inom forskning och utveckling av tekniken i en offentlig-privat partnerskapsmodell.

– Tillsammans med SUNY Poly kommer det nya centret förbättra våra möjligheter och positionera oss att flytta fram våra processgeometrier vid 7 nm och därefter, säger Dr Gary Patton, CTO och Senior Vice President för R & D vid Globalfoundries i ett pressmeddelande.

Filed under: Utländsk Ekonomi