En allians ledd av IBM Research meddelade idag att man gjort ett genombrott inom forskningen på nästa generations chip. Företaget har tillsammans med sina partners Global Foundries, Samsung och SUNY Polytechnic Institute med flera producerat halvledarindustrins första testchip i 7 nm processnod med fungerande transistorer.

Foto: IBM

För att uppnå högre prestanda, lägre energiförbrukning och den skalning som utlovats med 7 nm-tekniken har forskarna tvingats kringgå konventionella metoder för halvledartillverkning. Bland de nya processer och tekniker som uppfunnits av alliansen finns ett antal branschinnovationer, framför allt inom transistorer med kiselgermanium (SiGe) och integration av extrem ultraviolet (EUV)-litografi på multipla nivåer.

Prestationen, som av parterna betraktas som ett genombrott, är en del av IBM:s femåriga investering i forskning och utveckling av ny chipteknik på 3 miljarder dollar som aviserades förra året och utfördes genom ett unikt privat-offentligt partnerskap med delstaten New York samt den gemensamma utvecklingsalliansen med  Global Foundries, Samsung och leverantörer av utrustning. Teamet är baserat på SUNY Polys Nanotech Complex i Albany.

– För att näringsliv och samhälle ska få ut det mesta av morgondagens datorer och enheter är skalning till 7 nm och det som kommer därefter viktigt, säger Arvind Krishna, Senior Vice President och chef för IBM Research. Denna milstolpe bygger på decennier av forskning och genom att arbeta med våra partners anges takten  för mikroelektronikindustrin samt positionerar oss att  kunna öka vårt ledarskap under många år framöver.

Den IBM Research-ledda alliansen säger sig uppnått en nära 50 procentig nedskalning av arean jämfört med dagens mest avancerade teknik. De har introducerat SiGe som kanalmaterial för bättre transistorprestanda på 7 nm nodgeometrier samt processinnovationer för att stapla dem med en pitch under 30 nm och fullständig integrering av EUV-litografi på multipla nivåer . Dessa tekniker och skalningen kan enligt IBM Research som minst leda till en 50 procentig energi/prestanda-förbättring.

Filed under: Utländsk Teknik