Micronic har fått en order på en Sigma7500 från en halvledartillverkare i Asien. Systemet beräknas kunna levereras under innevarande år.

– Halvledarindustrin ökar fokus på att minska kostnader för volymproduktion av chip och Sigma är en kostnadseffektiv lösning för att minska fotomaskkostnaderna, säger Carl-Johan Blomberg, chefsekonom för Micronic Laser Systems AB.
Tillämpningar för produktserien Sigma är både binära och fasskiftande fotomasker för tekniknoderna 90, 65 och 45 nanometer.
Utöver att systemen möter de successivt ökande kraven på upplösning och precision för dessa avancerade tekniknoder, så tillför de laserbaserade Sigma-systemen en produktivitet som är avsevärt högre än den för elektronstråleritare. Detta minskar kostnaden och tillverkningstiden för fotomasktillverkaren, vilket i sin tur minskar kostnader och ledtider vid utveckling av halvledarkretsar.
Den höga upplösningen och produktiviteten erhålls med systemets 248-nanometers excimerlaser tillsammans med Micronics patenterade teknik ”Spatial Light Modulator” (SLM). En massiv parallell ”bitmappad” utskrift resulterar i korta rittider – endast två till tre timmar för avancerade fotomasker och är oberoende av mönstrets komplexitet och så kallad ”OPC”(Optical Proximity Correction).

Filed under: Svensk Ekonomi