Österrikiska IMS Nanofabrication (IMS) meddelar att Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) har gått med i IMS:s ”electron multibeam mask writer” utvecklingssamarbete som startades i början av året och där företag såsom Dai Nippon Printing Co. (DNP), Intel Corp. och Photronics Inc. deltar.

Syftet med samarbetet är att utveckla en maskritare för användning i avancerade tillämpningar och processer under 10 nm samtidigt som det ställs höga krav på genomströmning. Programmet närmar sig nu slutförandet av sin ”proof-of-concept”-fas och nästa uppgift i samarbetet kommer att fokusera på design och konstruktion av en alfa- och beta-version av det nya verktyget, enligt ett pressmeddelande.

Filed under: Utländsk Teknik