TSMC hoppar över 32 nm processnod och går direkt på 28 nm.
Under första halvåret 2010 inleder man produktion i två olika 28 nm-processer: Den ena optimerad för hastighet, den andra för låg effekt.

Den hastighetsoptimerade processen använder metallgrindar med isolator med högt K-värde och kommer att användas i processorer med höga prestanda, i grafikprocessorer och FPGAer.
Den effektoptimerade processen använder kisel-oxinitrid, SiON, och skall passa för basbandslösningar för mobiltelefoner, trådlösa uppkopplingar och portabla konsumentvaror.

Filed under: Utländsk Teknik